2024/06 6

AI 언어 모델(LLM)의 개발사(현재 주소)

한국/각국의AI LLM(Large Language Model) 및 SMALL LLM(소형 대규모 언어 모델) 개발사        한국의 AI LLM(Large Language Model) 및 SMALL LLM(소형 대규모 언어 모델) 개발사들은 다양한 연구 및 산업 응용 프로그램에서 활발히 활동하고 있습니다. 주요 개발사와 그들의 현재 수준을 소개하겠습니다. Large Language Model (LLM) 개발사1. Naver Clova모델: HyperCLOVA현재 수준: Naver Clova의 HyperCLOVA는 한국어에 특화된 대규모 언어 모델로, GPT-3와 유사한 성능을 보입니다. 이 모델은 검색, 추천, 자연어 생성 등 다양한 서비스에 활용되고 있습니다.2. Kakao Brain모델: KoGP..

디지털 트윈. Smart City . Smart Factory

디지털 트윈(Digital Twin), 스마트 시티(Smart City), 스마트 팩토리(Smart Factory)는 4차 산업혁명과 관련된 주요 개념으로, 각각의 기술은 디지털화와 데이터 분석을 통해 효율성을 극대화하고 다양한 산업에서 혁신을 일으키고 있습니다. 각 개념을 자세히 설명하겠습니다.     1. 디지털 트윈 (Digital Twin)개요디지털 트윈은 물리적인 자산, 시스템, 또는 프로세스의 디지털 복제본을 의미합니다. 이를 통해 실제 환경에서 일어나는 일을 디지털 환경에서 모니터링, 분석, 그리고 예측할 수 있습니다.구성 요소물리적 자산: 실제 세계의 기계, 장비, 시스템 등.디지털 모델: 물리적 자산의 디지털 복제본.데이터: 센서와 IoT 기기에서 수집된 실시간 데이터.분석 및 시뮬레이션..

ALD , ALE , Ion Beam, Sputter (스퍼터링)

ALD (Atomic Layer Deposition), ALE (Atomic Layer Etching), Ion Beam, Sputter (스퍼터링)은 반도체 제조 및 박막 증착에서 중요한 기술들입니다. 각각의 기술에 대해 자세히 설명드리겠습니다.    1. ALD (Atomic Layer Deposition)개요ALD는 원자층 수준의 정밀한 박막 증착 기술입니다. 이는 두 가지 이상의 전구체(Precursor) 가스를 이용하여 원자층을 한층씩 증착합니다.공정전구체 주입: 첫 번째 전구체 가스를 웨이퍼 표면에 주입하여 화학적으로 흡착(adsorption)됩니다.퍼지: 남은 전구체와 반응 부산물을 퍼지 가스로 제거합니다.두 번째 전구체 주입: 두 번째 전구체 가스를 주입하여 첫 번째 전구체와 반응시킵니다...

HBM . TSV 본딩과 세정 및 공정 장비

HBM (High Bandwidth Memory) TSV (Through-Silicon Via) 본딩과 세정 공정은 고성능 메모리 모듈의 제조에서 중요한 단계입니다. 이 공정들은 HBM의 성능과 신뢰성을 보장하기 위해 필수적입니다. 아래는 각각의 공정에 대한 설명입니다.     1. HBM TSV 본딩 공정HBM은 다층 메모리 스택 구조로, 각 층의 메모리 다이를 TSV를 통해 연결합니다. 본딩 공정은 이 메모리 다이들을 결합하는 과정입니다. 주요 단계는 다음과 같습니다:a. 다이 스태킹 (Die Stacking)TSV 형성: 실리콘 웨이퍼에 TSV를 식각하여 형성합니다. TSV는 상단과 하단의 메모리 다이 사이의 전기적 연결을 담당합니다.다이 어레이 배치: TSV가 형성된 다이를 일정한 배열로 배치합니..

방폭형 이오나이저(Explosion-proof Ionizer)

방폭형 이오나이저(Explosion-proof Ionizer)는 방폭지역이나 위험지역에서 사용하기 위해 설계된 장치입니다. 이러한 지역에서는 가연성 가스, 증기, 먼지 등이 존재할 수 있으며, 전기 장치의 스파크나 높은 온도가 폭발을 일으킬 수 있습니다. 방폭형 이오나이저는 이러한 위험을 방지하기 위해 특별한 설계와 인증을 받습니다.         방폭형 이오나이저 개요 이오나이저란?이오나이저는 공기 중에 이온을 발생시켜 정전기를 제거하거나 중화시키는 장치입니다. 이는 제조 공정이나 실험실 환경에서 정전기로 인해 발생할 수 있는 문제를 예방하는 데 사용됩니다. 일반적인 이오나이저는 산업용 클린룸, 전자 제조 공정, 페인트 스프레이 부스 등에서 사용됩니다. 방폭형 이오나이저란?방폭형 이오나이저는 폭발 가능..

안전진단과 위험예지 (주요 키워드와 패턴/탐지)

안전진단과 위험예지에 사용되는 주요 키워드와 패턴을 탐지하는 법은 현장에서 발생할 수 있는 잠재적 위험을 사전에 식별하고 예방하기 위한 중요한 방법입니다. 이를 통해 사고를 예방하고 안전한 작업 환경을 조성할 수 있습니다. 아래는 안전진단과 위험예지에서 주의해야 할 주요 키워드와 패턴, 그리고 이를 효과적으로 탐지하고 관리하는 방법입니다.    주요 키워드위험 요소:"화재" (Fire)"폭발" (Explosion)"누출" (Leak)"추락" (Fall)"감전" (Electrocution)작업 환경:"밀폐 공간" (Confined space)"고소 작업" (High place work)"유해 물질" (Hazardous materials)"소음" (Noise)"진동" (Vibration)장비 및 기계:"기계..

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