ALD (Atomic Layer Deposition), ALE (Atomic Layer Etching), Ion Beam, Sputter (스퍼터링)은 반도체 제조 및 박막 증착에서 중요한 기술들입니다. 각각의 기술에 대해 자세히 설명드리겠습니다. 1. ALD (Atomic Layer Deposition)개요ALD는 원자층 수준의 정밀한 박막 증착 기술입니다. 이는 두 가지 이상의 전구체(Precursor) 가스를 이용하여 원자층을 한층씩 증착합니다.공정전구체 주입: 첫 번째 전구체 가스를 웨이퍼 표면에 주입하여 화학적으로 흡착(adsorption)됩니다.퍼지: 남은 전구체와 반응 부산물을 퍼지 가스로 제거합니다.두 번째 전구체 주입: 두 번째 전구체 가스를 주입하여 첫 번째 전구체와 반응시킵니다...
